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Glühentladungsprozesse von Chapman; Chapma

by Chapman; Chapma | HC | Good
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Gut
Missing dust jacket; Pages can have notes/highlighting. Spine may show signs of wear. ~ ... Mehr erfahrenÜber den Artikelzustand
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eBay-Artikelnr.:145032890520
Zuletzt aktualisiert am 18. Mai. 2024 12:29:22 MESZAlle Änderungen ansehenAlle Änderungen ansehen

Artikelmerkmale

Artikelzustand
Gut
Buch, das gelesen wurde, sich aber in einem guten Zustand befindet. Der Einband weist nur sehr geringfügige Beschädigungen auf, wie z.B. kleinere Schrammen, er hat aber weder Löcher, noch ist er eingerissen. Bei gebundenen Büchern ist der Schutzumschlag möglicherweise nicht mehr vorhanden. Die Bindung weist geringfügige Gebrauchsspuren auf. Die Mehrzahl der Seiten ist unbeschädigt, das heißt, es gibt kaum Knitter oder Einrisse, es wurden nur in geringem Maße Bleistiftunterstreichungen im Text vorgenommen, es gibt keine Textmarkierungen und die Randbereiche sind nicht beschrieben. Alle Seiten sind vollständig vorhanden. Genauere Einzelheiten sowie eine Beschreibung eventueller Mängel entnehmen Sie bitte dem Angebot des Verkäufers. Alle Zustandsdefinitionen ansehenwird in neuem Fenster oder Tab geöffnet
Hinweise des Verkäufers
“Missing dust jacket; Pages can have notes/highlighting. Spine may show signs of wear. ~ ...
Binding
Hardcover
Weight
1 lbs
Product Group
Book
IsTextBook
Yes
ISBN
9780471078289
Publication Year
1980
Type
Textbook
Format
Hardcover
Language
English
Publication Name
Glow Discharge Processes : Sputtering and Plasma Etching
Item Height
1.3in
Author
Brian Chapman
Item Length
9.5in
Publisher
Wiley & Sons, Incorporated, John
Item Width
6.4in
Item Weight
30 Oz
Number of Pages
432 Pages

Über dieses Produkt

Product Information

Develops detailed understanding of the deposition and etching of materials by sputtering discharge, and of etching of materials by chemically active discharge. Treats glow discharge at several levels from basic phenomena to industrial applications--practical techniques diligently related to fundamentals. Subjects range from voltage, distributions encountered in plasma etching systems to plasma-electron interactions that contribute to sustaining the discharge.

Product Identifiers

Publisher
Wiley & Sons, Incorporated, John
ISBN-10
047107828x
ISBN-13
9780471078289
eBay Product ID (ePID)
6038279070

Product Key Features

Author
Brian Chapman
Publication Name
Glow Discharge Processes : Sputtering and Plasma Etching
Format
Hardcover
Language
English
Publication Year
1980
Type
Textbook
Number of Pages
432 Pages

Dimensions

Item Length
9.5in
Item Height
1.3in
Item Width
6.4in
Item Weight
30 Oz

Additional Product Features

Lc Classification Number
Qc711.8.G5
Edition Number
1
Table of Content
Gases. Gas Phase Collision Processes. Plasmas. DC Glow Discharges. RF Discharges. Sputtering. Plasma Etching. Appendices. Index.
Copyright Date
1980
Topic
Physics / Electromagnetism, Aeronautics & Astronautics
Lccn
80-017047
Dewey Decimal
537.5/2
Intended Audience
Scholarly & Professional
Dewey Edition
19
Illustrated
Yes
Genre
Technology & Engineering, Science

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